韓国と日本の特許庁のトップが6年ぶりに東京で会談し、知的財産をめぐる懸案について議論しました。

韓国特許庁が発表したところによりますと、李仁実（イ・インシル）特許庁長は、1日、東京で開かれた6年ぶりとなる韓国と日本の特許庁会合に出席し、日本の浜野幸一長官らと知的財産をめぐる懸案や今後の協力について話し合いました。

この会合で、両国は、知的財産制度の発展に向けて相互協力が必要だという認識で一致しました。

そして商標デザインの審査、審判、情報化、審査官の能力強化などの分野での実務者協議の再開や審査官の交流、グリーン・テクノロジー関連特許の分類体系構築の経験の共有などでも合意しました。

また両国の出願人に迅速で正確な特許サービスを提供するための特許共同審査についても実務者協議を続けることにしました。

李庁長は浜野長官に対して、ことし下半期に韓国で開かれる韓日中3か国の特許庁トップ会合に出席するよう要請しました。

李庁長は、「今後は多様な分野で緊密に協力していく。先進グローバル知的財産システムの構築でも、日本とともに世界をリードしていく」と述べました。