Les chercheurs sud-coréens ont mis au point une nanotechnologie permettant de contrôler les fissures des matières.

Les équipes de Nam Koo-hyun et de Ko Seung-hwan ont annoncé aujourd’hui qu’elles avaient réussi à créer des fissures sur un film en nitrure de silicium déposé sur un substrat de silicium et cela à une position souhaitée.

Cette « patterning technique » présente selon eux un grand potentiel pour la nanofabrication.

Les résultats de cette étude ont été rendus publics aujourd’hui sur la page d’accueil de la prestigieuse revue scientifique « Nature ».