Wissenschaft
Neue Technologie zur Nutzung von Rissen in der Halbleiterindustrie entwickelt
Write: 2012-05-10 15:32:04 / Update: 2012-05-10 15:33:27
Südkoreanische Wissenschaftler haben eine Methode zur kontrollierten Nutzung von Rissen in Halbleiter-Oberflächen entwickelt.
Das Team um die Forscher Nam Gu-hyeon von der Ehwa-Universität und Go Seung-hwan von der Technik-Universität KAIST erzeugte bei Tests erfolgreich geplante Risse auf Silikonscheiben.
Durch die gezielte Nutzung dieser Technologie konnte ein Kanal in Nanogröße, dünner als ein menschliches Haar, geschaffen werden. Dieser Kanal wiederum könne zur Texterkennung eingesetzt werden, so die Forscher.
Die Technologie soll demnach künftig in der Nano-Halbleiterindustrie, bei RAM-Speichern und in der Elektronikbranche zum Einsatz kommen.
Der Artikel, in dem das Forschungsergebnis vorgestellt wurde, erschien am heutigen Donnerstag als Leitartikel des angesehenen Wissenschaftsmagazins Nature.
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