超高速半導体、曲がる透明なディスプレイなどの素材として注目を集めている、夢の新素材、「グラフェン」について、韓国の研究チームが大量実用化に向けた技術を開発しました。
開発したのは、三星（サムソン）電子総合技術院の黄晟寓（ファン・ソンウ）専務と成均館（ソンギュングァン）大学の研究チームです。
この技術は、ゲルマニウム半導体を利用して、シリコン基板の大きさの単結晶グラフェンを合成するもので、この技術をもとに、シリコン基板より大きな単結晶グラフェンが作成できるようになれば、グラフェンを用いた電子製品の大量実用化が可能になるものと期待されます。
グラフェンは、夢の新素材とも言われ、優れた電子移動速度を持っているうえ、曲げたり、折り畳んだりすることもでき、超高速半導体や曲がるディスプレイの素材として脚光を浴びています。
これまでの技術では、金属基板で作成されたグラフェンを半導体基板に移す際に、電子の移動速度が遅くなったり、グラフェンが破れたりすることが課題となっていましたが、今回の研究では、ゲルマニウムを触媒として用いることで、課題を解決したということです。
今回の研究結果は、世界的な科学誌「サイエンス」にオンライン速報として掲載されました。